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靶电流密度对射频溅射制备无掺杂a-Si:H薄膜特性的影响
论文 | 更新时间：2023-12-11
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    • 靶电流密度对射频溅射制备无掺杂a-Si:H薄膜特性的影响

    • 暂无标题

    • 中山大学学报(自然科学版)(中英文)   1983年22卷第4期 页码：123-126

    • 纸质出版日期：1983，

      网络出版日期：1983-7-25，

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  • 朱琼瑞, 章佩娴, 张世宏. 靶电流密度对射频溅射制备无掺杂a-Si:H薄膜特性的影响[J]. 中山大学学报(自然科学版)(中英文), 1983,22(4):123-126. DOI：

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